產(chǎn)品詳情
奧地利EVK高光譜相機
EVK自成立以來一直致力于開發(fā)高光譜成像及傳感器類產(chǎn)品及解決方案，除了能夠?qū)ξ锪狭髦械膶ο筮M行分析和分類并實時做出準(zhǔn)確決策的獨特傳感器系統(tǒng)之外，EVK還設(shè)計了數(shù)據(jù)分析中的應(yīng)用程序，用于分類，檢查，過程監(jiān)控和過程控制。多年來通過不斷地發(fā)展，EVK在循環(huán)，采礦，食品工業(yè)，制藥和化學(xué)工業(yè)中基于傳感器的分類和分析系統(tǒng)的開發(fā)和制造方面有一定地位。擁有技術(shù)團隊的支持，從概念構(gòu)思到調(diào)試和售后支持，一應(yīng)俱全，可以為客戶需求提供高品質(zhì)的產(chǎn)品及服務(wù)。
產(chǎn)品范圍：
奧地利EVK傳感器、高光譜相機、高光譜攝相機
主要型號：
EQ32、Helios NIR G2 320 Class、Helios NIR G2 320 CORE
應(yīng)用：
食品加工、礦業(yè)、制藥業(yè)
相關(guān)產(chǎn)品介紹：
EQ32
描述：
EVK HELIOS EQ32高光譜成像系統(tǒng)是一款功能強大的分析工具，基于非接觸式和無損實時紅外成像光譜技術(shù)。
EVK HELIOS系統(tǒng)分析物體的化學(xué)特性，并區(qū)分彩色相機不可見的材料類型。內(nèi)部處理引擎可提供物料流的定性和定量信息，例如分析物濃度或材料成分。
攝像機附帶的即插即用組件經(jīng)過全面的內(nèi)部校準(zhǔn)。 Helios EQ32采用緊湊，堅固的不銹鋼外殼，具有應(yīng)力去耦的光機械特性。
該系統(tǒng)針對實際工業(yè)環(huán)境進行了優(yōu)化，可在整個指定溫度范圍內(nèi)提供穩(wěn)定的校準(zhǔn)數(shù)據(jù)。
主要特征：
-在0.93-1.70 nm的近紅外（NIR）波長范圍內(nèi)工作
-312個有效像素的空間分辨率
-220個光譜像素時500 Hz的采集速度
-GigE Vision GenICam界面
-堅固的工業(yè)設(shè)計。防護等級IP54
-溫度范圍0°C-50°C，具有完全的光學(xué)穩(wěn)定性
-光學(xué)系統(tǒng)針對分析應(yīng)用進行了優(yōu)化
-與EVK SQALAR軟件套件無縫集成
技術(shù)數(shù)據(jù)：
-光譜范圍：（929±2 – 1702±2）nm
-線掃描速率：446 Hz全幀
-光譜分辨率：2.5 nm
-光譜采樣：3.1 nm
-空間分辨率：312像素
-像素尺寸：30 x 30 μm
-光學(xué)耦合：C接口鏡頭
-擊角：60 μm
-接口：GigE Vision（GV）1），Camera b（CL）2）
-觸發(fā)輸入：RS-485
-不含鏡頭的尺寸：141 x 174 x 326 mm
-重量：約7.8公斤
-電源：18 – 36 V DC
-功耗：max 24W，典型的8W
-防護等級：IP54
-工作溫度：0至+50°C
-儲存溫度：-25至+75°C
-濕度：8至80％
