產(chǎn)品詳情
●該設(shè)備為電阻、電子束或電阻電子束復(fù)合鍍膜系統(tǒng),同時(shí)兼容IBE等離子刻蝕和在線輔助鍍膜,過(guò)流部件均采用SUS304制造,真空系統(tǒng)后置,標(biāo)準(zhǔn)配置分子泵系統(tǒng),標(biāo)配工業(yè)級(jí)人機(jī)界面和西門(mén)子PLC系統(tǒng),手動(dòng)和自動(dòng)模式自由切換,能夠滿足工業(yè)客戶小批量生產(chǎn)和科研院所客戶科研實(shí)驗(yàn)的需求。該系列設(shè)備不提供全手動(dòng)操作控制系統(tǒng)。
●形式:箱式一體機(jī),立式前開(kāi)門(mén),蒸發(fā)室和抽氣室為整體焊接式,一體機(jī)系統(tǒng)。
●真空系統(tǒng):極限真空5X10-4Pa,主泵為復(fù)合分子泵。
●真空測(cè)量:配三路數(shù)字復(fù)合真空計(jì),均采用安全防爆金屬測(cè)量規(guī)。
●工件架系統(tǒng):客戶需求定制,配置可擴(kuò)展4英寸、3英寸、2英寸基片的專用互換工裝,轉(zhuǎn)速3~30rpm變頻可調(diào),工件盤(pán)為球形和行星工件盤(pán)可選,行星工件盤(pán)成本較高。
●烘烤系統(tǒng):不銹鋼鎧裝加熱器匹配數(shù)字功率控制器和PID控制模塊,烘烤溫度300℃,溫控精度1℃,過(guò)沖不超過(guò)2℃。
●電子束蒸發(fā)源:E型電子束蒸發(fā)源系統(tǒng)(E型)1套,主體有屏蔽罩,單槍、單電源、單掃描,配置獨(dú)立高壓控制柜。
●坩堝:坩堝1套,電動(dòng)轉(zhuǎn)位和點(diǎn)動(dòng)轉(zhuǎn)位,配置無(wú)氧銅坩堝和石墨坩堝各一套。
●電阻蒸發(fā)源:2套電阻蒸發(fā)源。(選配)
●膜厚測(cè)試系統(tǒng):配瑞士inficon石英膜厚在線測(cè)量系統(tǒng), RS-232 和 USB兼容,匹配水冷膜厚探頭。
●離子源輔助沉積系統(tǒng):一套(選配離子源或高壓離子轟擊系統(tǒng))
●控制系統(tǒng):成熟可靠的真空鍍膜控制系統(tǒng),工業(yè)級(jí)10英寸觸摸屏和西門(mén)子PLC,能夠?qū)崿F(xiàn)抽真空、工轉(zhuǎn)烘烤、自動(dòng)充氣、自動(dòng)鍍膜、自動(dòng)冷卻放氣等鍍膜生產(chǎn)流程;支持半自動(dòng)和手動(dòng)等鍍膜操作方式。水、電、氣路有故障自動(dòng)報(bào)警和保護(hù)系統(tǒng),采用聲光報(bào)警。
●說(shuō)明:根據(jù)用戶要求,公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā),共享知識(shí)產(chǎn)權(quán),公司致力于工藝與設(shè)備完美匹配。