產(chǎn)品詳情
●本設(shè)備主要用于半導體刻蝕,能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能,使用氣態(tài)化學刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進行刻蝕,并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品,通過真空系統(tǒng)排出,特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
主營產(chǎn)品:光學器件、光電設(shè)備、電子設(shè)備
¥1000000.00
詳細參數(shù) | |||
---|---|---|---|
品牌 | 超邁光電 | 型號 | CM-014 |
材質(zhì) | 不繡鋼 | 功率 | 100W |
物料類型 | 靶材 | 加工定制 | 是 |
是否進口 | 否 | 產(chǎn)地 | 其他 |
●本設(shè)備主要用于半導體刻蝕,能夠兼容離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕功能,使用氣態(tài)化學刻蝕劑與材料產(chǎn)生反應(yīng)來進行刻蝕,并形成可從襯底上移除的揮發(fā)性副產(chǎn)品,通過真空系統(tǒng)排出,特別適合刻蝕熔融石英、硅、光刻膠、聚酷亞胺( PI) 薄膜、金屬等材料。
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