產(chǎn)品詳情
一、含次亞磷廢水
次磷酸鈉是一種理想的還原劑，主要用于化學鍍、電鍍、有機合成、食品工業(yè)等。隨著研究的深入和其衍生物的大量增加，其應用領域不斷擴大，已成為一種重要的精細無機鹽產(chǎn)品。
進入九十年代以來，化學鍍工業(yè)發(fā)展很快，在化學鍍鎳工藝中，普遍使用次磷酸鈉作為還原劑，次磷酸鈉提供還原鎳離子所需要的電子，使得鎳金屬沉積在金屬或者非金屬表面形成含鎳鍍層。零部件在沖洗以后產(chǎn)生清洗廢水，廢水中含有次亞磷酸根離子。
二、次亞磷廢水處理原理
次 亞磷廢水無法通過氧化為正磷進行處理，很多電鍍廢水處理現(xiàn)場使用芬頓氧化技術進行破絡除鎳并且進行除磷，其原理是通過芬頓氧化技術把次亞磷氧化為正磷，然 后通過加入石灰與正磷酸根生成沉淀，把磷去除。但是這種辦法只能理論上可行，因為對于次磷酸鈉廢水，芬頓氧化效率有限，無法徹底把次磷氧化為正磷。
次磷去除劑HMC-P3，又稱為次亞磷去除劑，湛清環(huán)保與清華大學聯(lián)合開發(fā)并且生產(chǎn)，其原理是直接通過均相共沉淀，次亞磷酸根與次亞磷去除劑螯合，把次亞磷去除。
三、次磷去除劑使用步驟
次磷去除劑作用于化學鍍次亞磷廢水，一般采用以下步驟，可以把次亞磷徹底去除在0.5mg/L以下。
1、取電鍍化學鎳次亞磷廢水
2、調(diào)節(jié)廢水pH，加入次亞磷去除劑以及催化劑進行反應
3、調(diào)節(jié)廢水pH，加入次亞磷絮凝劑進行絮凝反應
4、過濾沉淀出水，測定磷含量
表三標準要求，總磷的排放標準在0.5mg/L以下，通過使用次亞磷去除劑進行處理，加入磷含量的10倍左右的藥劑，可以徹底去除總磷。
四、次磷去除劑的性狀特征
次亞磷去除劑HMC- P3，是湛清環(huán)保與清華大學，針對次亞磷廢水共同開發(fā)的特效除磷藥劑，通過均相共沉淀技術，能夠讓水中的含磷污染物快速形成不溶性沉淀物而去除。主要應用 于電鍍廢水除磷、線路板廢水除磷以及有機廢水除磷等，能夠把磷處理至0.5ppm以下，達到國家表三排放標準。性狀如下：
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名稱 |
次磷去除劑 |
外觀 |
白色晶體 |
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品牌 |
HMC |
型號 |
P3 |
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有效物質(zhì)含量 |
99（％） |
包裝規(guī)格 |
25KG/袋 |
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pH值使用范圍 |
3-6 |
作用 |
電鍍廢水除磷 |
