產(chǎn)品詳情
德國原裝進(jìn)口 DIENER 精密型 等離子清洗機 FEMTO 2.2L 清洗/活化/蝕刻/涂層
清洗： 工藝部件的表面通過離子束的物理轟擊而被清洗，也可與特定氣體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)從而被清洗，清洗掉的工藝污染物轉(zhuǎn)化為氣相被排出。
如：去除有機污染物，去除納米級微粒，去除氧化層。
活化：工藝部件表面通過氧氣或空氣處理后，會在表面形成氧原子團(tuán)，這樣能使部件表面親水性和表面張力提高，能使涂料和粘接劑更好的附著于上，提高其的粘合力和附著力。
如：PDMS鍵合，粘接前的預(yù)處理，涂裝前的預(yù)處理，印刷前的預(yù)處理。
蝕刻：工藝部件表面通過特定氣體達(dá)到精確濺射，表面材料被剝離，轉(zhuǎn)變成氣相被排出，濺射后的材料表面積增大并更易濕潤，也使材料表面更粗糙化。通過改變工藝參數(shù)可使材料表面蝕刻出一定的形狀。
如：硅蝕刻，PTFE/PFA/FEP蝕刻，光刻膠去除。
涂層：使工藝部件表面發(fā)生等離子聚合反應(yīng)，前驅(qū)單體導(dǎo)入等離子真空腔室后使其電離并沉積至材料表面，隨即發(fā)生聚合反應(yīng)，形成聚合物層。
如：疏水層，親水層，保護(hù)/阻隔層，干潤滑層，疏油層。
FEMTO主要參數(shù)：
等離子清洗機FEMTO
等離子工藝除清洗與活化外，還具有蝕刻與涂層
的功能?？梢詰?yīng)用于多種領(lǐng)域。
l 硅蝕刻
l PTFE蝕刻
l 去除光刻膠
l 提高耐溫塑料對于涂料和粘結(jié)劑的附著性
l 疏水層的沉積
l 親水層的沉積
l 保護(hù)或絕緣層的沉積
l 防擴散層
主要技術(shù)參數(shù)：
1. 全自動控制
2. *根據(jù)工藝要求不同，可設(shè)定功率、壓強、氣體流量，時間等參數(shù)
3. 單路工作氣體，氣體流量通MFC流量計控制
4. 反應(yīng)艙為不銹鋼，?100 mm*L278mm，容積約為2.2L
5. 射頻頻率13.56MHz,功率0~100W
6. 電極材質(zhì)為鋁/不銹鋼
7. 運行模式為手動
8. 真空泵的排氣能力為4m3/Hour，配有強制進(jìn)氣閥
9. *配有壓力傳感器，可根據(jù)工藝要求設(shè)定壓力值
10. 外尺寸：W310*D420*H330mm
11. 電源電壓：單相AC230V 16A
