日本HD真空離子諧波CSF-17-50-2UH?

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第13年

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詳細(xì)參數(shù)
品牌HarmonicDrive型號(hào)CSF-17-50-2UH,
類型諧波減速器載荷狀態(tài)強(qiáng)沖擊載荷
傳動(dòng)比級(jí)數(shù)雙級(jí)軸的相對位置立式加速器
傳動(dòng)布置形式分流式加工定制是
樣品或現(xiàn)貨現(xiàn)貨齒面硬度軟齒面
布局形式擺線式用途減速機(jī)
輸入轉(zhuǎn)速1500rpm額定功率15kw
輸出轉(zhuǎn)速范圍111rpm許用扭矩1782N.m
使用范圍化工減速比242
產(chǎn)地日本

產(chǎn)品詳情

濺射臺(tái) 以離子束濺射為例，它由離子源、離子引出極和沉積室3大部分組成，日本HD真空離子諧波CSF-17-50-2UH在高真空或超高真空中濺射鍍膜法。利用直流或高頻電場使惰性氣體（通常為氬）發(fā)生電離， 產(chǎn)生輝光放電等離子體，電離產(chǎn)生的正離子和電子高速轟擊靶材，使靶材上的原子或分子濺射出來，然后沉積到基板上形成薄膜。 磁控濺射 磁控濺射技術(shù)日本HD真空離子諧波CSF-17-50-2UH已經(jīng)成為沉積耐磨、耐蝕、裝飾、光學(xué)及其他各種功能薄膜的重要手段.探討了磁控濺射技術(shù)在非平衡磁場濺射、脈沖磁控濺射等方面的進(jìn)步,說明利 用新型的磁控濺射技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)薄膜的高速沉積、高純薄膜制備、提高反應(yīng)濺射沉積薄膜的質(zhì)量等,并進(jìn)一步日本HD真空離子諧波CSF-17-50-2UH取代電鍍等傳統(tǒng)表面處理技術(shù)

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