產(chǎn)品詳情
光刻的目的是將電路圖形轉(zhuǎn)移到覆蓋于硅片表面的光刻膠上日本HD離子傳輸諧波SHD-14-50-2SH。光刻膠是一種光敏的化學(xué)物質(zhì),它通過(guò)深紫外線(或極紫外線)曝光來(lái)印制掩模板的圖像。涂膠和顯影設(shè)備是用來(lái)完成光刻的一系列工具的組合。光刻過(guò)程包括預(yù)處理、涂膠、甩膠、烘干,然后用機(jī)械臂將涂膠的硅片送入光刻機(jī)。以步進(jìn)式光刻機(jī)為例,日本HD離子傳輸諧波SHD-14-50-2SH在進(jìn)行硅片和掩模板的對(duì)準(zhǔn)、聚焦后,步進(jìn)式光刻機(jī)先曝光硅片上的一小片面積,隨后步進(jìn)到硅片的下一區(qū)域并重復(fù)這一過(guò)程。
(3)刻蝕 刻蝕是在沒(méi)有光刻膠保護(hù)的地方留下永久的圖形。日本HD離子傳輸諧波SHD-14-50-2SH刻蝕工藝一般使用等離子體刻蝕機(jī)、等離子體去膠機(jī)和濕法清洗設(shè)備?,F(xiàn)在主要使用干法等離子體刻蝕工藝。