產(chǎn)品詳情
擴(kuò)散爐技術(shù)指標(biāo):
可處理硅片尺寸:2—12英寸
外型形式:臥式1—4管結(jié)構(gòu)
工作溫度:200℃—1300℃
恒溫區(qū)長度及精度:200mm—1100mm≤±0.5℃
單點(diǎn)溫度穩(wěn)定性、重復(fù)性: ≤±1℃/24h
溫度斜變: 可控升溫速率15℃/min
可控降溫速率: 5℃/min
送片裝置:全自動懸臂推拉舟、拉桿式推拉舟
氣路系統(tǒng):1—5路工藝氣體/管
氣體控制:全自動MFC
控制方式:工控機(jī)、觸摸屏