EPS E-4F 克羅地亞DIOKI工業(yè)材料原廠

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詳細參數(shù)
品牌/廠家克羅地亞DIOKI類型正牌料
用途級別注射級熔體流動速率30g
密度0.86g拉伸強度1.8kg
彎曲強度59kg缺口沖擊強度5kg.cm
斷裂伸長率6%成型收縮率7%

產(chǎn)品詳情

EPS E-4F 克羅地亞DIOKI工業(yè)材料原廠介紹:

以分光光度計和其它測量儀器代替人眼和大腦的功能。色影比例的試湊過程是通計算機模擬進行的,而不需要對橡膠膠料進行著色的配煉混合,操作人員只需測量反射率,即它的標準值并選擇用于配色的著色劑即可,通過調(diào)整配料著色劑的濃度,使該測量系統(tǒng)與標準的換算值一致。如果操作人員選擇的橡膠著色劑合理,該系統(tǒng)將以質(zhì)量分數(shù)的形式輸出一個配方,然后再將百分比配方轉(zhuǎn)換成質(zhì)量配比。采用計算機方法,可使整個著色橡膠配方過程的時間縮短在十幾分鐘內(nèi)。塑膠原料屬于無定形聚合物,無明顯熔點;熔體粘度較高,流動性差,耐候性較差,紫外線可使變色;熱變形溫度為70-107℃(85左右),制品經(jīng)退火處理后還可提高10℃左右。對溫度,剪切速率都比較敏感;塑膠原料在-40℃時仍能表現(xiàn)出一定的韌性,可在 -40℃到85℃的溫度范圍內(nèi)長期使用。

EPS E-4F 克羅地亞DIOKI工業(yè)材料原廠

每次搭建測試平臺時,導熱硅脂總是少不了的,但是為了讓導熱硅脂能涂抹的更均勻,簡單的辦法是用手來抹勻,不過想要清洗掉這些導熱硅脂要多洗幾遍手,其麻煩程度不言而喻。不過有一家公司很聰明,推出了一款具有雙面膠特性的導熱墊,我們可以將CPU和散熱底座粘在一起,再也不用為扣具而擔心。T411適用于粘貼大尺寸的散熱片,特別是安裝有一定重量的銅片散熱器到BG:,或把散熱片固定到塑料封裝的器件上,比如芯片和處理器。

EPS E-4F 克羅地亞DIOKI工業(yè)材料原廠特性:

4. 排氣:為了防止在充模的過程中出現(xiàn)排氣不良,使熔料灼傷,接縫線明顯等問題的出現(xiàn),要求開設(shè)深度不大于0.04mm的排氣孔或排氣槽,以利熔料吋產(chǎn)生的氣體排出。塑料塑膠原料的主體是丙烯腈、丁二烯和苯乙烯的共混物或三元共聚物,是一種堅韌而有剛性的熱塑性塑料。苯乙烯使塑膠原料有良好的模塑性、光澤和剛性;丙烯腈使塑膠原料有良好的耐熱、耐化學腐蝕性和表面硬度;丁二烯使塑膠原料有良好的抗沖擊強度和低溫回彈性。三種組分的比例不同,其性能也隨之變化。

“拿汽車發(fā)動機來說,傳統(tǒng)的齒輪都使用的是鈦合金,鎂合金,鋁合金之類的。這不僅貴,摩擦大,噪聲大,而且笨重,增加油耗,不環(huán)保。”歐陽偉說到。為減輕汽車自重,采用納米改性高性能塑料配件替代笨重的金屬部件已經(jīng)成為發(fā)展主流。普通塑料制品模量和耐熱性較低,抗沖強度差,因而難以直接用于汽車發(fā)動機及重要配件。但如果在塑料樹脂中添加一定比例的納米材料,對樹脂進行改性,所制得的產(chǎn)品耐高溫性、抗老化性和抗沖強度均可明顯增強。

EPS E-4F 克羅地亞DIOKI工業(yè)材料原廠

EPS E-4F 克羅地亞DIOKI工業(yè)材料原廠性能:

c、塑膠加入高填充劑或合金(PSF/PBT/PA):塑膠的應用狀況塑膠的應用十分廣泛,在電子電氣領(lǐng)域,塑膠可用于制作各種接觸器、接插件、變壓器絕緣件、可控硅帽、絕緣套管、線圈骨架、接線柱和集電環(huán)等電氣零件,印刷電路板、軸套、罩、TV系統(tǒng)零件、電容器薄膜、電刷座.

在1月18日至21日舉辦的北京風能大會暨展覽會上,德國漢高通用工業(yè)黏合劑部門推出了加快風機葉片黏結(jié)的全新解決方案——新型聚氨酯黏合劑MacroplastUK134。該產(chǎn)品可提高固化速度,提高葉片生產(chǎn)效率。其反應速度遠高于目前使用的環(huán)氧樹脂膠黏劑,且產(chǎn)生的放熱較少,大大降低了固化時間和溫度。尤其重要的是,該產(chǎn)品可滿足風機葉片黏接所需的機械強度要求。該產(chǎn)品滿足德國勞氏船級社(GL)規(guī)定的所有關(guān)鍵參數(shù),并成為世界獲得GL認證的聚氨酯黏合劑。

EPS E-4F 克羅地亞DIOKI工業(yè)材料原廠

EPS E-4F 克羅地亞DIOKI工業(yè)材料原廠應用:

典型的應用包括:(1)高速高壓下具有低磨擦系數(shù)、耐磨耗性能的零部件;這種稱為環(huán)氧硅氧烷聚酯樹脂(PES)的新材料,也使得新一代低成本芯片納米壓印光刻術(shù)成為可能。該研究成果刊登在近期美國《真空科學與技術(shù):B輯》上。倫斯勒理工學院的物理教授陸道明稱,有了這種新材料,芯片制造商將能削減從生產(chǎn)到封裝過程中的數(shù)個生產(chǎn)步驟,從而實現(xiàn)成本的降低。目前廣泛采用的光刻是利用光與化學物質(zhì)的混合,在硅的微小面積上產(chǎn)生復雜的微米與納米級圖案。作為此過程的一部分,稱為重分布層的聚合物薄膜對器件的功效相當重要,它沉積到硅芯片上,以減緩信號傳輸延遲,并保護芯片免受環(huán)境差異與機械因素的影響。

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