產(chǎn)品詳情
清洗工藝主要采用濕化學(xué)法。為了減少化學(xué)溶劑的使用,日本HD超聲設(shè)備諧波CSF-11-50-2XH-F通常也使用超聲清洗器、噴霧清洗器、刷洗器等以增加清洗效果。
(1) 超聲清洗器。在清洗槽中增加能產(chǎn)生1MHz超聲能的兆聲發(fā)生器,利用超聲能量產(chǎn)生的氣泡去除污物,從而降低清洗溫度,減少清洗劑溶液濃度。
(2) 噴霧清洗器。噴嘴高速噴出霧狀清洗日本HD超聲設(shè)備諧波CSF-11-50-2XH-F液與旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的硅片之間產(chǎn)生物理作用力,增加清洗效果。
(3) 刷洗器。硅片刷洗能大量去除硅片表面的顆粒物,這種方日本HD超聲設(shè)備諧波CSF-11-50-2XH-F法主要用于化學(xué)機(jī)械拋光后的清洗。噴嘴噴射出清洗液或者去離子水,轉(zhuǎn)動(dòng)刷涮洗做旋轉(zhuǎn)運(yùn)動(dòng)的硅片,從而增加清洗效率。