harmonic拋光機諧波 CSF-17-80-2UH-LW

數(shù)量(臺) 價格
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第13年

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詳細參數(shù)
品牌HarmonicDrive型號CSF-17-80-2
類型諧波減速器載荷狀態(tài)均勻載荷
傳動比級數(shù)多級軸的相對位置立式加速器
傳動布置形式展開式加工定制是
樣品或現(xiàn)貨現(xiàn)貨齒面硬度軟齒面
布局形式擺線式用途變速機
輸入轉(zhuǎn)速1450rpm額定功率15kw
輸出轉(zhuǎn)速范圍111rpm許用扭矩1782N.m
使用范圍工業(yè)減速比236
產(chǎn)地日本

產(chǎn)品詳情

輔助工藝。主要包括拋光與清洗。拋光一般使用化學機械平坦化完成拋光工藝harmonic拋光機諧波 CSF-17-80-2UH-LW，使用設備有CMP拋光機、硅片清洗機等。

行業(yè)內(nèi)也將半導體制造工藝過程分為四種基本工藝：薄膜生成工藝harmonic拋光機諧波 CSF-17-80-2UH-LW、圖形轉(zhuǎn)移工藝、摻雜工藝、其他輔助工藝（包括熱處理工藝 、清洗工藝、CMP）。下面我們將分別介紹這四種工藝及其使用設備

薄膜生成工藝是通過生長或淀積的方法，生成集成電路制造過程中所harmonic拋光機諧波 CSF-17-80-2UH-LW需的各種材料的薄膜，如金屬層、絕緣層、半導體層等。半導體中各個層次的制造工藝如表2.1所示。例如可以利用蒸發(fā)、濺射、電鍍工藝生成導體層，如鋁或金為材質(zhì)的導體層。二氧化硅作為絕緣層，可以用熱氧化工藝、化學氣相淀積工藝或濺射工藝來加工。


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