產(chǎn)品詳情
真空吸盤可繞Z軸旋轉(zhuǎn),噴嘴可沿X、Y、Z移動,哈默納科精密扁平諧波CSF-25-160-2A-GR圍繞Z旋轉(zhuǎn)。噴嘴沿硅片徑向分滴光刻膠,這樣光刻膠就可以均勻噴涂在硅片表面上。光刻膠涂覆后,在硅片邊緣的正反兩面都會有光刻膠的堆積。哈默納科精密扁平諧波CSF-25-160-2A-GR邊緣的光刻膠一般涂布不均勻,不能中“背面EBR”裝置為邊緣光刻膠的去除裝置。
軟烘的目的是去掉光刻膠中的溶劑、哈默納科精密扁平諧波CSF-25-160-2A-GR增強光刻膠的粘附性、釋放旋轉(zhuǎn)涂膠產(chǎn)生的內(nèi)應(yīng)力、改善線寬控制、防止光刻膠粘附到其他器件上。軟烘在真空熱板上進行